抛光盘系统:抛光盘材质为铝合金（铝&硬质阳极氧）；抛光盘由功率1.5kW的减速电机驱动；转速范围：0~180rpm，误差在±2rpm以内，可无级调节；配有缓慢启动、缓慢停止系统；抛光盘底座冷却系统，配置红外温度检测系统；抛光盘尺寸530mm；

CMP设备4/6/8寸都可以兼容。

抛光头加压、驱动系统：抛光头数量为1个；抛光头驱动电机功率：0.75kW；

抛光头转速范围：0～200 rpm，速度可调；抛光头加压：柔性加压，压力可调；

抛光头分区：3 zone（6寸），5 zone（8英寸），4英寸单zone；抛光头压力范围：0-10 psi（8英寸）；0-7 psi（6英寸）；压力误差在±1%psi以内；抛光头摆动速度：5r/min；抛光头摆动角度：±1°；

抛光液供应系统：配置3路单独的隔膜泵供液系统（可使用三种不同类型抛光液供液，防止同一路使用时有污染）；抛光液闭环流量控制器供液范围：50-200 ml/min；抛光液闭环流量控制器供液控制精度：±1%。

半自动上下片系统：具备半自动上下片（抛光头可旋转至上料工位吸取晶圆，可旋转至下料工位吸取晶圆），抛光头两侧配置Loading&Unloading工位，上下片分开，避免污染。

金刚石修整器：方式：摆臂式；修整器压力：max 9kfg；修整头转速范围：0~150rpm（转速误差范围±1%）；修整器直径：100mm；

修整头及抛光垫清洗：修整头清洗：喷头清洗；抛光垫清洗：水枪清洗。

控制系统：具备飞片检测，对于抛光片在抛光过程中的飞片可以进行实时检测，出现飞片报警停机；同时搭配摩擦力EPD（金属Cu-SiO₂介质层切换时截停）和光学宽谱EPD（SiO₂层厚度监测）终点监测系统；控制方式：PC中文界面控制，可实现EPD等大量数据的计算以及存储；可保存20组抛光程序，程序具有故障诊断功能。

安全储能系统，要求：通过分离式结构保证安全性更高；功率大于7kW；电池容量不小于15kwh,循环寿命大于5500次。

其他配件：水枪：1把，在设备前部；有防护挡板