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新姿态 向未来| 特思迪换新升级首次亮相中国半导体制造供应链国产化发展大会

作者:    时间:2023-04-13    阅读量:2319

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4月9日,特思迪为期三天的 《2023中国半导体制造供应链国产化发展大会》旅程结束。展会中特思迪携新品牌形象亮相,并设有展台。本次展会主题为“赋能国产、强基固链”,大会邀请政府主管领导、专家学者、企业高管等发表精彩演讲,聚焦行业热点,解读相关政策,分享最新前沿技术。大会吸引了国内外300多家半导体行业参展商,高达2万多名观众前来参观,展馆内人潮涌动。

特思迪携新品牌形象亮相本届展会,整个展台以白色为主色调,外观简洁大方,看起来科技感十足。新LOGO深蓝加浅绿的配色让人耳目一新,从新颜色、新包装、新场景、新体验等方面全力展示特思迪品牌内涵。

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作为半导体领域超精密平面加工设备的引领者,特思迪坚持高品质的同时不断创新,新的品牌形象契合公司快速发展的需要,用更稳健、更国际化的品牌形象服务客户。

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此次,特思迪在展位展出新款减薄机,客户可以现场观摩体验,感受特思迪产品性能优越,工艺稳定等核心技术优势。现场客户也是跟销售人员就产品进行了比较深度的探讨,例如设备所应用的领域,设备所加工的精度范围等,销售团队都悉心的给用户提供热情而专业的解答。现场互动氛围热烈,为答谢新老客户对特思迪的信赖和支持,展会现场为新老客户们准备了超值小礼品。

展会期间,举办了多场主题会议、论坛、颁奖典礼等活动,围绕“先进封装、先进测试、第三代半导体、半导体材料、半导体设备”等热门话题举办高峰论坛和研讨会,帮助客户捕捉新的市场趋势并抓住新的机会。

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与此同期,特思迪应邀出席《2023珠三角第三代半导体产业技术峰会》,并在大会上做了关于“先进抛光技术在大尺寸量产型碳化硅的应用及前景”相关主题的精彩演讲,演讲中提到特思迪关于SiC衬底磨抛工艺流程目前有两种,双抛工艺和研削工艺,并建议要根据不同材料的特性,以及产业化的不同阶段,选择合适的抛光工艺和设备。


一次深圳展会之旅正式结束了,特思迪还会继续为客户提供更多高质量的设备产品,助力中国半导体产业技术进步,期待我们的下一次再会!


北京特思迪半导体设备有限公司

北京市顺义区杜杨北街3号 101399

Tel:+86-10-6477 8430

www.tsd-semicon.com

mail:sales@tsd-semicon.com



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